Cuivre C11000 pour les unités de dépôt

Le cuivre C11000 a une dureté de 45 HRB, un autre paramètre important de ses propriétés mécaniques. La dureté fait référence à la capacité d'un matériau à résister à la grattage ou à l'indentation, et c'est aussi un indicateur important de la résistance à l'usure d'un matériau. Pour le cuivre C11000, sa dureté modérée garantit qu'elle est moins sensible à l'usure et à la déformation pendant l'utilisation.

Caractéristiques du cuivre C11000 dans le domaine des dispositifs de dépôt:
Substrats et cibles: Dans des processus tels que le dépôt physique de vapeur (PVD) et le dépôt chimique de vapeur (CVD), les substrats et les cibles sont le choix de base qui permettent le dépôt de films minces, et le cuivre C11000 est le choix idéal pour la fabrication de ces composants en raison de sa excellente conductivité électrique et de faible résistance électrique, qui assure la qualité et la qualité de la qualité des films.
Éléments de chauffage: un contrôle précis de la température est nécessaire pendant le processus de dépôt pour assurer la qualité du film, et le cuivre C11000 est souvent utilisé comme élément de chauffage en raison de son excellente conductivité thermique et de sa résistance à des températures élevées, permettant un transfert de chaleur rapide et uniforme vers la zone de dépôt, améliorant l'efficacité et la qualité du dépôt.

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